Präzision auf Nanometer-Ebene
Optische Fasern für Präzision in der Mikro- und Nanostrukturierung
Die Halbleiterfertigung erfordert höchste Präzision. Jeder Lichtimpuls muss exakt positioniert sein. Prozesse wie Lithografie, Waferinspektion sowie Plasma- und Ätzverfahren stellen extreme Anforderungen an Stabilität und Transmission. Schon kleinste Abweichungen können die Prozessqualität beeinträchtigen oder Produktionsfehler verursachen.
Optische Fasern für die Halbleiterindustrie müssen daher eine besonders stabile und verlustarme Lichtführung gewährleisten. CeramOptec entwickelt faseroptische Lösungen, die selbst unter anspruchsvollen Prozessbedingungen eine präzise Signalübertragung und zuverlässige Performance ermöglichen.
Typische Anforderungen an Fasern
- Hohe Transmission im UV- und VUV-Bereich
- Stabile Performance unter Reinraumbedingungen
- Zuverlässigkeit im Dauerbetrieb mit hohen Strahlleistungen
- Resistenz gegenüber thermischen und chemischen Belastungen
Lösungen von CeramOptec – in der Halbleiterindustrie die erste Wahl
Unsere Optran® Faserlösungen sichern höchste Präzision, minimieren Ausfallzeiten und gewährleisten maximale Prozessstabilität – entscheidende Faktoren in einer Branche, in der jeder Produktionsschritt zählt.
- Exzellente Transmission von DUV bis NIR – ideal für Lithografie, Inspektion und hochpräzise Messtechnik
- UV- und VUV-beständig – langzeitstabil und resistent gegen Solarisation
- Nicht-runde Geometrien – rechteckige, quadratische oder lineare Profile für Strahlhomogenisierung und anwendungsspezifische Strahlprofile
- Hohe Beständigkeit – robust gegenüber Hitze und Chemikalien, geeignet für Plasma- und Hochenergieprozesse
FAQ – Häufig gestellte Fragen
Wie stellen Sie die Reinraumtauglichkeit sicher?
Unsere OEM-Konfektionen werden in kontrollierten Produktionsumgebungen gefertigt und anschließend partikelarm verpackt. So lassen sie sich problemlos in sensible Reinraumprozesse integrieren und erfüllen höchste Anforderungen an Sauberkeit und Prozesssicherheit.
Sind CeramOptec Fasern für Plasma- oder Hochenergieprozesse geeignet?
Ja. Spezielle Aluminium-Coatings schützen die Fasern zuverlässig vor extremen Temperaturen, Plasmaeinwirkungen und aggressiven Chemikalien. Sie behalten ihre Leistungsfähigkeit auch unter härtesten Bedingungen und sind ideal für Hochenergie- und Plasmaprozesse geeignet.
Können Fasern für kundenspezifische Lithografie-Systeme angepasst werden?
Ja. Wir entwickeln maßgeschneiderte Lösungen, bei denen Geometrien, NA-Werte, Coatings und Steckverbindungen exakt auf Ihr Lithografie-System abgestimmt werden. So entstehen Fasern, die optimal in Ihre Prozesse integriert sind.
Wie gewährleisten Sie Konsistenz zwischen Prototyp und Serie?
Dank unserer vollständigen Inhouse-Produktion überwachen wir alle Prozessschritte engmaschig. Dadurch stellen wir eine gleichbleibend hohe Qualität über alle Chargen sicher. Jede Lieferung ist dokumentiert, geprüft und rückverfolgbar – für maximale Transparenz zwischen Prototyp und Serienfertigung.
